Titaanijauhe on hieno jauhemateriaali, joka on valmistettu erittäin puhtaasta titaanimetallista erikoisprosesseilla (kuten kaasusumutus ja plasmapyörivä elektrodimenetelmä). Siinä yhdistyvät titaanimetallin erinomaiset ominaisuudet sen jauhemuodon plastisuuteen, mikä tekee siitä keskeisen raaka-aineen edistyneessä valmistuksessa.
Ydinominaisuudet ja sovellusparametrit:
1. Puhtausaste: Saatavana useissa laatuluokissa 99,8 % - 99,99 % (2N8 - 4N). Erittäin puhtaat (≥ 99,95 %) jauheet sopivat erityisen hyvin epäpuhtauksille herkkiin sovelluksiin, kuten kriittisiin ilmailukomponentteihin, tehokkaisiin sputterointikohteisiin ja erittäin puhtaisiin metalliseoksiin, mikä varmistaa lopputuotteen kemiallisen vakauden ja mekaaniset ominaisuudet.
2. Hiukkaskokojakauma: Räätälöity tuotanto on tuettu. Jauheen hiukkaskokoalueita voidaan säätää tarkasti loppupään sovellusten vaatimusten täyttämiseksi (esimerkiksi 15-53 μm käytetään yleisesti 3D-tulostuksessa, < 20 μm MIM:ssä ja submikronisia jauheita voidaan tarvita ruiskutukseen tai kemiallisiin lisäaineisiin). Saatavilla on myös spesifisiä hiukkaskokojakaumia (kuten normaali- ja kapeajakaumia), jotka täyttävät eri prosessien tiukat vaatimukset (kuten jauheen juoksevuus, pakkaustiheys ja sintrausaktiivisuus).
3. Pakkaus: Käytetään tavallista kaksikerroksista tyhjiöpakkausta. Sisäkerros on antistaattinen alumiinifoliopussi, joka eristää tehokkaasti hapen ja kosteuden; ulompi kerros on erittäin luja, kosteutta ja puhkaisua kestävä komposiittipussi tai rautarumpu. Tämä varmistaa, että jauhe säilyttää alhaisen happipitoisuuden (<100 ppm) kuljetuksen ja varastoinnin aikana, mikä estää hapettumista ja kontaminaatiota ja maksimoi jauheen aktiivisuuden.
▸ Pääsovellukset:
1. Additive Manufacturing (3D-tulostus): Selektiivistä lasersulatusta (SLM), elektronisuihkusulatusta (EBM) ja muita prosesseja käytetään monimutkaisten, kevyiden ilmailurakenteiden (moottorikomponentit, stentit) ja biolääketieteellisten implanttien (luun nivelet, hampaiden juuret) valmistukseen.
2. Kohdevalmistus: Käytetään tasomaisten ja pyörivien sputterointikohteiden valmistukseen fyysistä höyrypinnoitusta (PVD) varten sellaisissa sovelluksissa kuin mikroelektroniikka, näyttöpaneelit, koristepinnoitteet ja optiset pinnoitteet.
3. Metallin ruiskuvalu (MIM): Käytetään suurten, monimutkaisten, erittäin tarkkojen ja pienten titaaniseososien (kuten kellokoteloiden, lääkinnällisten laitteiden osien ja ampuma-aseiden komponenttien) valmistukseen, jolloin saadaan lähes verkon muotoisia muotoja.
4. Jauhemetallurgia (PM): Suorituskykyisiä titaaniseoksesta valmistettuja lähes verkon muotoisia komponentteja (kuten venttiilirungot, pumppujen komponentit ja autonosat) valmistetaan prosesseilla, kuten puristamalla ja sintraamalla ja kuumaisostaattisella puristamisella (HIP), jolloin saavutetaan korkea materiaalin käyttöaste.
5. Lämpösuihkepinnoitteet: Käytetään korroosionkestävien, kulutusta kestävien tai bioyhteensopivien pinnoitteiden luomiseen (kuten kemiallisten laitteiden, offshore-alustojen ja lääketieteellisten laitteiden pintakäsittelyt).
